DIN 50453-2-1990 半导体工艺材料的检验.蚀刻混合剂浸蚀率的测定.第2部分:二氧化硅涂层.光学法
作者:标准资料网
时间:2024-05-12 17:25:18
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【英文标准名称】:Testingofmaterialsforsemiconductortechnology;determinationofetchratesofetchingmixtures;silicium-dioxidcoating;opticalmethod
【原文标准名称】:半导体工艺材料的检验.蚀刻混合剂浸蚀率的测定.第2部分:二氧化硅涂层.光学法
【标准号】:DIN50453-2-1990
【标准状态】:现行
【国别】:德国
【发布日期】:1990-10
【实施或试行日期】:
【发布单位】:德国标准化学会(DIN)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:试验;材料;二氧化硅;半导体工程;腐蚀混合物;腐蚀速度;快速方法;蚀刻;材料试验;光学测量;光学试验;半导体工艺;混合物
【英文主题词】:opticaltests;opticalmeasurement;rapidmethod;semiconductorengineering;testing;materialstesting;etching;etchmixtures;etchrates;mixtures;silicondioxide;materials;semiconductortechnology
【摘要】:Thestandarddefinesthetestmethodforthedeterminationofetchratesofetchmixturesonsiliciumdioxidcoatings.
【中国标准分类号】:H82
【国际标准分类号】:29_040_30
【页数】:2P;A4
【正文语种】:德语
【原文标准名称】:半导体工艺材料的检验.蚀刻混合剂浸蚀率的测定.第2部分:二氧化硅涂层.光学法
【标准号】:DIN50453-2-1990
【标准状态】:现行
【国别】:德国
【发布日期】:1990-10
【实施或试行日期】:
【发布单位】:德国标准化学会(DIN)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:试验;材料;二氧化硅;半导体工程;腐蚀混合物;腐蚀速度;快速方法;蚀刻;材料试验;光学测量;光学试验;半导体工艺;混合物
【英文主题词】:opticaltests;opticalmeasurement;rapidmethod;semiconductorengineering;testing;materialstesting;etching;etchmixtures;etchrates;mixtures;silicondioxide;materials;semiconductortechnology
【摘要】:Thestandarddefinesthetestmethodforthedeterminationofetchratesofetchmixturesonsiliciumdioxidcoatings.
【中国标准分类号】:H82
【国际标准分类号】:29_040_30
【页数】:2P;A4
【正文语种】:德语
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